Number of the records: 1
Rutile TiO2 thin film electrodes with excellent blocking function and optical transparency
SYS 0511963 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103223034.0 014 $a 85070934766 $2 SCOPUS 014 $a 000485837700045 $2 WOS 017 70
$a 10.1016/j.electacta.2019.134685 $2 DOI 100 $a 20191128d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Rutile TiO2 thin film electrodes with excellent blocking function and optical transparency 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256518 $1 011 $a 0013-4686 $e 1873-3859 $1 200 1 $a Electrochimica acta $v Roč. 321, OCT 2019 (2019) $1 210 $c Elsevier 608 $a Article 610 $a band alignment 610 $a solar-cells 610 $a anatase 610 $a layers 610 $a electrochemistry 610 $a water 610 $a deposition 610 $a thickness 700 -1
$3 cav_un_auth*0102849 $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $a Krýsová $b Hana $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0291956 $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $a Zlámalová $b Magda $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0261282 $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $a Tarábková $b Hana $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102816 $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $a Jirkovský $b Jaromír $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0233265 $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $a Frank $b Otakar $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0245576 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $4 070 $a Kohout $b Michal $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102829 $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $a Kavan $b Ladislav $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $z K $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 856 $9 RIV $u http://hdl.handle.net/11104/0302193
Number of the records: 1