Number of the records: 1
Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm
- 1.
SYSNO ASEP 0336589 Document Type Z - Pilot plant, Verified Technology, Plant Breed/Variety R&D Document Type Pilot Plant, Verified Technology, Plant Breed/Variety RIV Subspecies Ověřená technologie Title Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm Title E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm Author(s) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, František (UPT-D) RID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Lencová, Bohumila (UPT-D) RID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Mikšík, P. (CZ)
Vašina, J. (CZ)
Horák, R. (CZ)Year of issue 2009 Int.Code 162 410 SResult web page, Location of the result Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Technical parameters Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů. Economic parameters Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné. Owner Name Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Registration Number of the result owner 68081731 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Possible third party use of the result N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence Licence fee N - Poskytovatel licence nepožaduje licenční poplatek Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords electron beam lithography ; shaped electron beam Subject RIV JP - Industrial Processing R&D Projects FR-TI1/576 GA MPO - Ministry of Industry and Trade (MPO) Annotation Realizace technologie zápisu elektronovým svazkem obdélníkového tvaru proměnné velikosti, nastavitelné nezávisle v každém směru v rozsahu 66-2100 nm s krokem 33 nm. Description in English Implementation of electron beam writing technology with a shaped rectangular electron beam of variable size, the beam size being adjusted independently in both axes in the range 66-2100 nm with the step of 33 nm. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2010
Number of the records: 1