Number of the records: 1  

High-quality dense ZnO thin films: work function and photo/electrochemical properties

  1. SYS0582298
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20240528140231.5
    014
      
    $a 85181515428 $2 SCOPUS
    014
      
    $a 001147734600002 $2 WOS
    017
    70
    $a 10.1007/s10008-023-05766-6 $2 DOI
    100
      
    $a 20240205d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a DE
    200
    1-
    $a High-quality dense ZnO thin films: work function and photo/electrochemical properties
    215
      
    $a 16 s.
    300
      
    $a duplicita s FzÚ z důvodu dvojí afiliace autorky
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0257112 $1 011 $a 1432-8488 $e 1433-0768 $1 200 1 $a Journal of Solid State Electrochemistry $v (2024) $1 210 $c Springer
    608
      
    $a Article
    608
      
    $a Early Access
    610
      
    $a atomic layer deposition
    610
      
    $a mott-schottky analysis
    610
      
    $a doped zno
    610
      
    $a tio2
    610
      
    $a rf
    610
      
    $a crystalline
    610
      
    $a growth
    610
      
    $a oxide
    610
      
    $a al
    610
      
    $a Zinc oxide
    610
      
    $a Mott-Schottky analysis
    610
      
    $a Kelvin probe
    610
      
    $a Photoelectrochemistry
    610
      
    $a Spray pyrolysis
    610
      
    $a Reactive magnetron sputtering
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0102849 $a Krýsová $b Hana $p UFCH-W $o Odd. elektrochemických materiálů $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $q FZU, Inst Phys Czech Acad Sci, Slovance 2, Prague 8, Czech Republic $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0266741 $a Mansfeldová $b Věra $p UFCH-W $o Odd. elektrochemických materiálů $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0261282 $a Tarábková $b Hana $p UFCH-W $o Odd. elektrochemických materiálů $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0253568 $a Písaříková $b A. $y CZ $4 070 $q FZU, Inst Phys Czech Acad Sci, Slovance 2, Prague 8, Czech Republic,
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0039489 $a Hubička $b Z. $o Nízkoteplotní plazma $y CZ $4 070 $q FZU, Inst Phys Czech Acad Sci, Slovance 2, Prague 8, Czech Republic,
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0102829 $a Kavan $b Ladislav $p UFCH-W $o Odd. elektrochemických materiálů $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $4 070 $z K $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i.
    856
      
    $u https://link.springer.com/article/10.1007/s10008-023-05766-6 $9 RIV
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.