Number of the records: 1
Skleněná maska se sub mikronovými otvory
- 1.
SYSNO ASEP 0551708 Document Type O - Others R&D Document Type Others Title Skleněná maska se sub mikronovými otvory Title Glass mask with sub micron pinholes Author(s) Brunn, Ondřej (UPT-D) RID, ORCID
Burda, Daniel (UPT-D)
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kopal, Jaroslav (UPT-D)Year of issue 2021 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords pinhole ; mask ; electron lithography Subject RIV JJ - Other Materials OECD category Nano-processes (applications on nano-scale) R&D Projects TN01000008 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support UPT-D - RVO:68081731 Annotation BRUNN, Ondřej, BURDA, Daniel, KOLAŘÍK, Vladimír, KOPAL, Jaroslav. Skleněná maska se sub mikronovými otvory. 2021. Pomocí elektronové litografie je běžné realizovat ve vrstvě elektronového rezistu tloušťky několika stovek nanometrů otvory s průměrem pod mikrometr, při vysokém urychlovacím napětí i pod sto nanometrů. Otázkou je, do jaké neprůhledné vrstvy (materiál, tloušťka) se motiv rezistové masky přenáší. Obecně lze říct, že čím tenčí je neprůhledná vrstva, tím věrnější je přenos geometrie otvoru. Další omezení spočívá v dostupných leptacích technikách pro požadované materiály, z nichž je tvořena nepropustná vrstva. Description in English BRUNN, Ondřej, BURDA, Daniel, KOLAŘÍK, Vladimír, KOPAL, Jaroslav. Skleněná maska se sub mikronovými otvory. 2021. Using electron lithography, it is common to realize several thicknesses in the electron resist layer hundreds of nanometers holes with a diameter below micrometer, at high accelerating voltage even below one hundred nanometers. The question is what opaque layer (material, thickness) the motif of the resist mask transmits. In general, the thinner the opaque layer, the more faithful the geometry transfer hole. Another limitation lies in the available etching techniques for the required materials, of which an impermeable layer is formed. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2022
Number of the records: 1