Number of the records: 1
Litografická maska
- 1.
SYSNO 0544061 Title Litografická maska Title Lithographic mask Author(s) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Burda, Daniel (UPT-D)
Ondříšková, Martina (UPT-D)
Lalinský, Ondřej (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horodyský, P. (CZ)Issue data 2021 Subspecies Functional Specimen Int.Code APL-2021-03 Technical parameters Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy. Economic parameters Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz Owner Name Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., APL-2021-03 Document Type Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TN01000008 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR), CZ - Czech Republic Institutional support UPT-D - RVO:68081731 Language cze Country CZ Keywords electron beam lithography * photomask Cooperating institutions CRYTUR s.r.o. (Czech Republic) Permanent Link http://hdl.handle.net/11104/0321117
Number of the records: 1