Number of the records: 1  

Litografická maska

  1. 1.
    SYSNO ASEP0544061
    Document TypeL - Prototype, Functional Specimen
    R&D Document TypePrototype, Functional Specimen
    RIV SubspeciesFunctional Specimen
    TitleLitografická maska
    TitleLithographic mask
    Author(s) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Burda, Daniel (UPT-D)
    Ondříšková, Martina (UPT-D)
    Lalinský, Ondřej (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Horodyský, P. (CZ)
    Year of issue2021
    Int.CodeAPL-2021-03
    Technical parametersZákladními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
    Economic parametersFunkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
    Owner NameÚstav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    Registration Number of the result owner68081731
    Applied result category by the cost of its creationA - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    License fee feeA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,APL-2021-03
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordselectron beam lithography ; photomask
    Subject RIVBH - Optics, Masers, Lasers
    OECD categoryOptics (including laser optics and quantum optics)
    R&D ProjectsTN01000008 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportUPT-D - RVO:68081731
    AnnotationPomocí elektronové litografie byla připravena šablona pro fotolitografickou přípravu tenké vodivé mřížky na nevodivé podložce s využitím v elektronové mikroskopii.
    Description in EnglishA photo mask was prepared using electron–beam lithography. The mask was used for the preparation of a thin conductive grid on a non-conductive substrate by photolithography.
    WorkplaceInstitute of Scientific Instruments
    ContactMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Year of Publishing2022
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.