Number of the records: 1
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N připravený dispergací s anorganickými plnivy
- 1.0537419 - ÚFE 2021 RIV cze P1 - User Module
Mrázek, Jan
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N připravený dispergací s anorganickými plnivy.
[Colloidal diffusion source of phosphorus for preparing N-type doped silicon prepared by dispersion with inorganic fillers.]
2020. Owner: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Date of the utility model acceptance: 18.08.2020. Utility model number: 34310
Institutional support: RVO:67985882
Keywords : semiconductor * phosphorus * colloid
OECD category: Electrical and electronic engineering
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034310.pdf
Technické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N připraveného dispergací kyseliny polyfosforečné s alternativním obsahem oxidu křemičitého
The technical solution relates to the composition of a colloidal diffusion source of phosphorus for the preparation of doped silicon type N prepared by dispersion of polyphosphoric acid with an alternative content of silica
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0315134
File Download Size Commentary Version Access UFE 0537419.pdf 0 466.7 KB Other open-access
Number of the records: 1