Number of the records: 1
Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž
SYS 0537052 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225046.8 100 $a 20210107d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž 210 $d 2020 541 $a Functional sample of part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads $z eng 610 $a hollow cathode discharge 610 $a thin films 610 $a tube 610 $a CrN 610 $a Cr 700 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0245576 $a Kohout $b Michal $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0386482 $a Jetmar $b Tomáš $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0385390 $a Sezemský $b P. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0401937 $a Rozhoň $b P. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0023353 $a Hrabovský $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0100503 $a Schovánek $b Petr $p FZU-D $i Společná laboratoř optiky $j Joint Laboratory of Optics $w Classical and Quantum Optics $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1