Number of the records: 1  

Mapping of dopants in silicon by injection of electrons

  1. SYS0367163
    LBL
      
    01508^^^^^2200277^^^450
    005
      
    20240103195832.5
    100
      
    $a 20111116d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng $d eng
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Mapping of dopants in silicon by injection of electrons
    215
      
    $a 1 s.
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0367161 $1 010 $a N $1 200 1 $a Mikroskopie 2011 $v S. 46 $1 210 $a Nové Město na Moravě $c Československá mikroskopická společnost $d 2011 $1 702 1 $a Frank $b L. $4 340 $1 702 1 $a Hozák $b P. $4 340
    610
    0-
    $a mapping dopants
    610
    0-
    $a semiconductors
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0052204 $a Hovorka $b Miloš $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0101580 $a Konvalina $b Ivo $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0101547 $a Frank $b Luděk $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.