Number of the records: 1
Effect of plasma composition on nanocrystalline diamond layers deposited by a microwave linear antenna plasma-enhanced chemical vapour deposition system
SYS 0454568 LBL 03719^^^^^2200553^^^450 005 20240103211651.7 014 $a 000366588100006 $2 WOS 014 $a 84934342494 $2 SCOPUS 017 70
$a 10.1002/pssa.201532183 $2 DOI 100 $a 20160112d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a DE 200 1-
$a Effect of plasma composition on nanocrystalline diamond layers deposited by a microwave linear antenna plasma-enhanced chemical vapour deposition system 215 $a 6 300 $a 2017 oprava kódu oboru do RIV - odstranění kódu UFCH 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0043977 $1 011 $a 1862-6300 $e 1862-6319 $1 200 1 $a Physica Status Solidi A $e Applications and Materials Science $v Roč. 212, č. 11 (2015), s. 2418-2423 $1 210 $c Wiley 610 0-
$a diamond 610 0-
$a electrical conductivity 610 0-
$a nanocrystalline materials 610 0-
$a optical emission spectroscopy 610 0-
$a plasma enhanced chemical vapour deposition 610 0-
$a SiC 700 -1
$3 cav_un_auth*0264753 $a Taylor $b Andrew $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0285329 $a Ashcheulov $b Petr $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0204806 $a Fekete $b Ladislav $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100246 $a Hubík $b Pavel $i Polovodiče $j Semiconductors $p FZU-D $w Semiconductors $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0307669 $a Klimša $b Ladislav $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100485 $a Remeš $b Zdeněk $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102815 $a Jirka $b Ivan $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $p UFCH-W $w Low-dimensional Systems $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0057455 $a Janíček $b P. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0320407 $a Bedel-Pereira $b E. $y FR $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0215563 $a Kopeček $b Jaromír $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0044289 $a Mistrík $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0302391 $a Mortet $b Vincent $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1