0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Internal code: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technical parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Economic parameters: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
R&D Projects: GA TA ČR TF03000025
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)

Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0281681