Number of the records: 1
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
SYS 0486974 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103215638.9 100 $a 20171121d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm 210 $d 2017 541 $a Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm $z eng 610 $a Microwave surfatron 610 $a thin films 610 $a low-temperature plasma 610 $a ALD 610 $a deposition 610 $a plasma diagnostics 700 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0092334 $a Pultar $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100468 $a Poruba $b Aleš $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015169 $a Vaněk $b J. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0358487 $a Pečiva $b L. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0278325 $a Lukašík $b P. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0061624 $a Dolák $b J. $y CZ
Number of the records: 1