Number of the records: 1
Interface and Morphology Engineered Amorphous Si for Ultrafast Electrochemical Lithium Storage
SYS 0583587 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240514130453.0 014 $a 85186401207 $2 SCOPUS 014 $a 001174197000001 $2 WOS 017 $a 10.1002/smll.202311250 $2 DOI 100 $a 20240305d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a US 200 1-
$a Interface and Morphology Engineered Amorphous Si for Ultrafast Electrochemical Lithium Storage 215 $a 10 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0039655 $1 011 $a 1613-6810 $e 1613-6829 $1 200 1 $a Small $v (2024) $1 210 $c Wiley 610 $a amorphous Si 610 $a stress management 610 $a Lithium-ion batteries 700 -1
$3 cav_un_auth*0397478 $a Farjana $b Jaishmin Sonia $p UFCH-W $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $y IN $4 070 $z K $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0369812 $a Haider $b Golam $p UFCH-W $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $w Low-dimensional Systems $y IN $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0464083 $a Ghosh $b S. $y ES $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0287362 $a Müller $b Martin $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0405346 $a Volochanskyi $b Oleksandr $p UFCH-W $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $y UA $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0264065 $a Bouša $b Milan $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $w Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102900 $a Plšek $b Jan $p UFCH-W $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $w Low-dimensional Systems $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0464084 $a Kamruddin $b M. $y IN $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102823 $a Kalbáč $b Martin $p UFCH-W $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $w Low-dimensional Systems $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0233265 $a Frank $b Otakar $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $w Electrochemical Materials $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 856 $u https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/smll.202311250 $9 RIV
Number of the records: 1