Number of the records: 1
A robust and high performance copper silicide catalyst for electrochemical CO2 reduction
SYS 0582978 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240513081022.2 014 $a 85186065672 $2 SCOPUS 014 $a 001174886900001 $2 WOS 017 $a 10.1039/D3MA00633F $2 DOI 100 $a 20240220d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a GB 200 1-
$a A robust and high performance copper silicide catalyst for electrochemical CO2 reduction 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0538998 $1 011 $e 2633-5409 $1 200 1 $a Materials Advances $v Roč. 5, č. 7 (2024), s. 2917-2925 $1 205 $a ONLINE $1 210 $c Royal Society of Chemistry 610 $a Cu-Si 610 $a phase selectivity 610 $a Cu3S1 700 -1
$3 cav_un_auth*0103249 $a Dřínek $b Vladislav $p UCHP-M $i Výzkumná skupina laserové chemie $j Laser Chemistry Research Group $w Department of Laser Chemistry $4 070 $z K $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0264834 $a Dytrych $b Pavel $p UCHP-M $i Výzkumná skupina laserové chemie $j Laser Chemistry Research Group $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103253 $a Fajgar $b Radek $p UCHP-M $i Výzkumná skupina laserové chemie $j Laser Chemistry Research Group $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0259525 $a Klementová $b Mariana $p FZU-D $i Materiálová analýza $j Material Analysis $w Functional Metal Materials and Thin Films $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103307 $a Kupčík $b Jaroslav $p UCHP-M $i Výzkumná skupina laserové chemie $j Laser Chemistry Research Group $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0215563 $a Kopeček $b Jaromír $p FZU-D $i Materiálová analýza $j Material Analysis $w Functional Metal Materials and Thin Films $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0397492 $a Svora $b Petr $p FZU-D $i Materiálová analýza $j Material Analysis $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287685 $a Koštejn $b Martin $p UCHP-M $i Výzkumná skupina laserové chemie $j Laser Chemistry Research Group $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0270489 $a Jandová $b Věra $p UCHP-M $i Výzkumná skupina laserové chemie $j Laser Chemistry Research Group $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103358 $a Soukup $b Karel $p UCHP-M $i Výzkumná skupina katalýzy a reakčního inženýrství $j Catalysis and Reaction Engineering Research Group $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0463389 $a Beránek $b R. $y DE 856 $u https://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2024/ma/d3ma00633f $9 RIV
Number of the records: 1