Number of the records: 1

Спосіб одержання опромінених частинок

SYSNO ASEP	0576732
Document Type	P - Patent
R&D Document Type	Patent or other outcome protected by special legislation
Title	Спосіб одержання опромінених частинок
Title	Method of production of irradiated particles
Author(s)	Cígler, Petr (UOCHB-X)_{RID, ORCID} Havlík, Jan (UOCHB-X)_RID Hrubý, Martin (UMCH-V)_{RID, ORCID} Kučka, Jan (UMCH-V)_{RID, ORCID}
Year of issue	2023
Possible third party use of the result	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Royalty requested	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Patent no. or utility model no. or industrial design no.	UA127266
Date of the patent acceptance	28.06.2023
Name of the patent owner	Ústav organické chemie a biochemie AV ČR v. v. i. - Ústav makromolekulární chemie AV ČR v. v. i
Code of the issuer name	UA001 - State Department of Intellectual Property Kyiv
Current use	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Territorial Protection	NEU - národní patent v zemi mimo EU PCT - mezinárodní patentová ochrana dle Smlouvy o patentové spolupráci
Language	ukr - Ukrainian
Keywords	nanodiamond ; nitrogen vacancy centers ; irradiation
OECD category	Biochemistry and molecular biology
R&D Projects	LM2015064 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
Institutional support	UOCHB-X - RVO:61388963 ; UMCH-V - RVO:61389013
Annotation	Даний винахід стосується способу опромінення іонами основи у вигляді частинок, що включає стадії включення основи у вигляді частинок у тверду матрицю, що містить атоми 10B, та піддавання матриці, одержаної на попередній стадії, опроміненню потоком нейтронів з одержанням твердої матиці, що включає опромінену основу у вигляді частинок. Спосіб за даним винаходом надзвичайно ефективний та піддається масштабуванню. Він, зокрема, придатний для одержання опромінених наноалмазів та опромінених частинок SiC.
Description in English	The present invention relates to a process for ion irradiation of a particulate substrate, comprising the steps of: embedding particulate substrate in a solid matrix comprising 10B atoms, and exposing the matrix obtained in the previous step to a neutron flux, to give irradiated particulate substrate. The process of the invention is extremely effective and amenable to large scale. It is particularly suitable for producing irradiated nanodiamonds and irradiated SiC particles.
Workplace	Institute of Organic Chemistry and Biochemistry
Contact	asep@uochb.cas.cz ; Kateřina Šperková, Tel.: 232 002 584 ; Jana Procházková, Tel.: 220 183 418
Year of Publishing	2024
Electronic address	https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/063273431/publication/UA127266C2?q=UA127266C2

Number of the records: 1