- Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
Number of the records: 1  

Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami

  1. SYS0567281
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20230323122940.3
    017
      
    $2 DOI
    100
      
    $a 20230123d m y slo 03 ba
    101
      
    $a cze $d cze
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
    215
      
    $a 5 s. $c E
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0558457 $1 011 $a 1213-2705 $1 200 1 $a Zpravodaj ČVS $i 30 $h 1 $v S. 2-6 $1 210 $a Praha $c Česká Vakuová Společnost $d 2022 $1 541 $a Bulletin of the Czech Vacuum Society $1 702 1 $a Drbohlav $b J. $4 340
    541
      
    $a Thin films for photovoltaics deposited by plasma chemistry methods
    $z eng
    610
      
    $a thin films
    610
      
    $a deposition
    610
      
    $a plasma chemistry
    610
      
    $a photovoltaics
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.