Number of the records: 1
Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
- 1.
SYSNO ASEP 0567281 Document Type C - Proceedings Paper (int. conf.) R&D Document Type Conference Paper Title Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami Title Thin films for photovoltaics deposited by plasma chemistry methods
Author(s) Fejfar, Antonín (FZU-D) RID, ORCID, SAI Number of authors 1 Source Title Zpravodaj ČVS, 30, 1. - Praha : Česká Vakuová Společnost, 2022 / Drbohlav J. - ISSN 1213-2705 Pages s. 2-6 Number of pages 5 s. Publication form Online - E Action LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022 Event date 30.05.2022 - 02.06.2022 VEvent location Bítov Country CZ - Czech Republic Event type EUR Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords thin films ; deposition ; plasma chemistry ; photovoltaics Subject RIV BM - Solid Matter Physics ; Magnetism OECD category Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) R&D Projects LM2018110 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) EF16_026/0008382 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation Tenké vrstvy jsou klíčovou komponentou prakticky všech moderních fotovoltaických článků pro využití sluneční energie. Články využívají tenké vrstvy pro dosažení optimálního záchytu světla, pro rozdělení a sběr fotogenerovaných nábojů i pro pasivaci rozhraní či přímo jako vrstvy absorbující fotony slunečního svitu. Každoročně jsou tak nanášeny vrstvy o celkové ploše řádu mnoha stovek kilometrů čtverečních, a to především s využitím plazmochemických technologií. Description in English Thin films are key components for practically all of contemporary photovoltaic cells for solar energy utilization. Cells use thin films for optimizing light trapping, for selecting and collection of photogenerated charges and interface passivation or as absorber layers. Each year several hundreds of square kilometers of thin films are deposited mainly by plasma chemistry methods. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2023
Number of the records: 1