Number of the records: 1
Deposition of cobalt oxide films by reactive pulsed magnetron sputtering
SYS 0541687 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225706.1 014 $a 85096441240 $2 SCOPUS 014 $a 000604583200062 $2 WOS 017 70
$a 10.1016/j.surfcoat.2020.126590 $2 DOI 100 $a 20210414d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Deposition of cobalt oxide films by reactive pulsed magnetron sputtering 215 $a 11 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v Roč. 405, Jan (2021) $1 210 $c Elsevier 608 $a Article 610 $a cobalt oxide film 610 $a pulsed magnetron sputtering 610 $a HiPIMS 610 $a Raman spectroscopy 610 $a XPS 610 $a XRD 610 $a electrical resistivity 700 -1
$3 cav_un_auth*0375512 $a Hippler $b Rainer $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y DE $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100265 $a Jiříček $b Petr $p FZU-D $i Optické materiály $j Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0237279 $a Houdková $b Jana $p FZU-D $i Optické materiály $j Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257508 $a Wulff $b H. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0360821 $a Kruth $b A. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0312744 $a Helm $b C.A. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $u https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.126590 $9 RIV
Number of the records: 1