Number of the records: 1
ICP plazma zdroj
- 1.
SYSNO ASEP 0539967 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title ICP plazma zdroj Title ICP plasma source Author(s) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Poruba, A. (CZ)
Dolák, J. (CZ)Number of authors 1 Year of issue 2020 Int.Code FVMF2/FZU/2020 Technical parameters Vnější průměr vstupní části ICP zdroje: 6 mm. Vnitřní průměr vstupní části ICP zdroje: 4 mm. Vnější průměr pracovní části ICP zdroje: 25 mm. Vnitřní průměr pracovní části ICP zdroje: 23 mm. Economic parameters Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Registration Number of the result owner 68378271 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč License fee fee Z - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., FVMF2/FZU/2020 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords inductively coupled plasma ; Minimal Fab ; low-temperature plasma ; ALD ; RF plasma Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics OECD category Fluids and plasma physics (including surface physics) R&D Projects TM01000039 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali zdroj induktivně vázaného plazmatu (ve zkratce ICP z anglického inductively coupled plasma) vhodného pro použití v Minimal Fab systému. Měření generovaného plazmatu prokázalo, že ICP zdroj plazmatu je schopen generovat nízkoteplotní plazma v intervalu tlaků od 1 Pa až po 100 Pa. Dále ICP zdroj je možné provozovat také v čistém argonu, dusíku, kyslíku nebo jejich směsích. Description in English Within the TAČR project, we developed and implemented an inductively coupled plasma source (ICP) suitable for use in the Minimal Fab system. Low-temperature plasma diagnostics of the generated plasma proved that the ICP plasma source is able to generate low-temperature plasma in the pressure range from 1 Pa to 100 Pa. Furthermore, the ICP source can also be operated in pure argon, nitrogen, oxygen gas or mixtures thereof. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2021
Number of the records: 1