Number of the records: 1
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
- 1.
SYSNO ASEP 0537050 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů Title Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages Author(s) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hnilica, J. (CZ)
Klein, P. (CZ)
Vašina, P. (CZ)Year of issue 2020 Int.Code FVNCK1/FZU/2020 Technical parameters Délka pulzu: 30 μs, vzdálenost mezi pulzy v balíčku: 20 μs, střída: 5 %, počet pulzů:4, pracovní tlak v reaktoru: 1 Pa Economic parameters Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - Masarykova univerzita Registration Number of the result owner 68378271 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč License fee fee A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., FVNCK1/FZU/2020 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords sputtering ; thin films ; plasma ; deposition ; deposition rate ; pulse package ; ionization fraction Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics OECD category Fluids and plasma physics (including surface physics) R&D Projects TN01000038 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. Změřené parametry plazmatu prokázali, že zařízení je schopné zdvojnásobit depoziční rychlosti při zachování ionizačního stupně rozprášených částic. Description in English As a part of the TAČR project, we have developed a device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages. The measured plasma parameters showed that the device is capable to double the deposition rate while the ionization fraction of sputtered species remain the same. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2021
Number of the records: 1