Number of the records: 1  

Hallův senzor

  1. 1.
    SYSNO ASEP0534524
    Document TypeP - Patent
    R&D Document TypePatent or other outcome protected by special legislation
    TitleHallův senzor
    TitleHall sensor
    Author(s) Ďuran, Ivan (UFP-V) RID, ORCID
    Entler, Slavomír (UFP-V) ORCID
    Number of authors2
    Year of issue2020
    Possible third party use of the resultP - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
    Royalty requestedZ - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek
    Patent no. or utility model no. or industrial design no.308527
    Date of the patent acceptance16.09.2020
    Name of the patent ownerÚstav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Current useA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Languagecze - Czech
    Keywordssensor ; tokamak
    Subject RIVBL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OECD categoryFluids and plasma physics (including surface physics)
    Institutional supportUFP-V - RVO:61389021
    AnnotationHallův senzor je tvořen teplotně a radiačně odolným podkladovým substrátem, elektrickými spoji z vodivého materiálu, kontaktními plochami z vodivého materiálu, elektrickými kontaktními body z vodivého materiálu a citlivou vrstvou, jehož podstata spočívá v tom, že citlivá vrstva o síle 1 nanometru až 1 milimetru je tvořena z chemického prvku antimonu nebo jeho slitiny, přičemž obsah antimonu v citlivé vrstvě je vyšší než 90 %.
    Description in EnglishThe Hall sensor consists of a temperature and radiation resistant substrate, electrical connections made of conductive material, contact surfaces made of conductive material, electrical contact points made of conductive material and a sensitive layer, the essence of which consists in that the sensitive layer with a thickness of 1 nanometer to 1 millimeter is formed of a chemical element of antimony or its alloy, the content of antimony in the sensitive layer being higher than 90%.
    WorkplaceInstitute of Plasma Physics
    ContactVladimíra Kebza, kebza@ipp.cas.cz, Tel.: 266 052 975
    Year of Publishing2021
    Electronic addresshttps://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308527.pdf
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.