Number of the records: 1  

High rate deposition of photoactive TiO.sub.2./sub. films by hot hollow cathode

  1. SYS0524998
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20240103224142.2
    014
      
    $a 85076290354 $2 SCOPUS
    014
      
    $a 000509617000018 $2 WOS
    017
    70
    $a 10.1016/j.surfcoat.2019.125256 $2 DOI
    100
      
    $a 20200616d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a CH
    200
    1-
    $a High rate deposition of photoactive TiO2 films by hot hollow cathode
    215
      
    $a 10 s.
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v Roč. 383, Feb (2020), s. 1-10 $1 210 $c Elsevier
    608
      
    $a Article
    610
      
    $a TiO2
    610
      
    $a hollow cathode discharge
    610
      
    $a sputtering
    610
      
    $a thermal evaporation
    610
      
    $a deposition rate
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y CZ $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0245576 $a Kohout $b Michal $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0364551 $a Perekrestov $b Roman $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y UA $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0393017 $a Tvarog $b D. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y CZ $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0347568 $a Kmentová $b H. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    856
      
    $u https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125256 $9 RIV
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.