Number of the records: 1  

Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek

  1. 1.
    SYSNO0507953
    TitlePřívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek
    TitleGas supplies for CVD device for the preparation of graphene based substrates
    Author(s) Průcha, Lukáš (UPT-D) ORCID
    Piňos, Jakub (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Sýkora, Jiří (UPT-D)
    Materna Mikmeková, Eliška (UPT-D) ORCID, RID, SAI
    Issue data2019
    SubspeciesFunctional Specimen
    Int.CodeAPL-2019-04
    Technical parametersFunkční vzorek se skládá z nerezové trubice, příruby s vývodem, 3 ventilů, 2 průtokoměrů, 2 elektromagnetických zámků, 2 plynových filtrů, tenké ocelové trubičky, kabelů na propojení s PC, 2 plynových bomb a CVD pece.
    Economic parametersFunkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Lukáš Průcha, prucha@isibrno.cz
    Owner NameÚstav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,APL-2019-04
    Document TypePrototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
    Grant TG03010046 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportUPT-D - RVO:68081731
    Languagecze
    CountryCZ
    Keywords gas supplies * methane * hydrogen * CVD * graphene
    Permanent Linkhttp://hdl.handle.net/11104/0298928
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.