Number of the records: 1
Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek
- 1.
SYSNO ASEP 0507953 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek Title Gas supplies for CVD device for the preparation of graphene based substrates Author(s) Průcha, Lukáš (UPT-D) ORCID
Piňos, Jakub (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Sýkora, Jiří (UPT-D)
Materna Mikmeková, Eliška (UPT-D) ORCID, RID, SAINumber of authors 4 Year of issue 2019 Int.Code APL-2019-04 Technical parameters Funkční vzorek se skládá z nerezové trubice, příruby s vývodem, 3 ventilů, 2 průtokoměrů, 2 elektromagnetických zámků, 2 plynových filtrů, tenké ocelové trubičky, kabelů na propojení s PC, 2 plynových bomb a CVD pece. Economic parameters Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Lukáš Průcha, prucha@isibrno.cz Owner Name Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Registration Number of the result owner 68081731 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč License fee fee N - Poskytovatel licence nepožaduje licenční poplatek Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., APL-2019-04 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords gas supplies ; methane ; hydrogen ; CVD ; graphene Subject RIV JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering OECD category Coating and films R&D Projects TG03010046 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support UPT-D - RVO:68081731 Annotation Funkční vzorek byl navržen v rámci řešení projektu Podložky na bázi grafenu modifikované elektronovým svazkem pro LV STEM (TAČR GAMA TG03010046) a otestován na CVD grafenu vyráběném pro tento projekt. Přesné a bezpečné dávkování plynů do CVD pece je u přípravy grafenu velmi důležitý parametr. Je nutné zajistit velmi přesné dávkování výbušných a hořlavých plynů. Díky našemu řešení pro dávkování těchto nebezpečných plynů, připevněné k našemu prototypovému CVD reaktoru, jsme schopni dávkovat tyto plyny přímo do CVD reaktoru nejen bezpečně ale i s velkou přesností průtoku. Díky tomu jsme schopni velmi efektivně upravovat vstupní parametry experimenty během grafenového růstu. Navíc je díky našemu návrhu velmi jednoduché a bezpečné používané plyny vyměnit za jiné. Description in English The functional sample was designed within the project Electron beam treated graphene based substrates for LV STEM (TAČR GAMA TG03010046) and tested on CVD graphene produced for this project. Accurate and safe dosing of gases into the CVD furnace is a very important parameter in the preparation of graphene. It is necessary to ensure very accurate dosing of explosive and flammable gases. With our solution for dispensing these hazardous gases attached to our prototype CVD reactor, we are able to dispense these gases directly into the CVD reactor not only safely but also with great precision. As a result, we are able to very efficiently adjust input parameters by experiments during graphene growth. In addition, our design makes it very simple and safe to replace used gases for different ones. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2020
Number of the records: 1