Number of the records: 1
Controlling Microstructure of Yttria-Stabilized Zirconia Prepared from Suspensions and Solutions by Plasma Spraying with High Feed Rates.
SYS 0482532 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240111140952.4 014 $a 85028991232 $2 SCOPUS 014 $a 000416433500004 $2 WOS 017 $a 10.1007/s11666-017-0622-x $2 DOI 100 $a 20171204d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a US 200 1-
$a Controlling Microstructure of Yttria-Stabilized Zirconia Prepared from Suspensions and Solutions by Plasma Spraying with High Feed Rates. 215 $a 17 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257151 $1 011 $a 1059-9630 $e 1544-1016 $1 200 1 $a Journal of Thermal Spray Technology $v Roč. 26, č. 8 (2017), s. 1787-1803 $1 210 $c Springer 610 $a hybrid plasma torch 610 $a microstructure 610 $a solution 610 $a precursor spraying 610 $a suspension spraying 610 $a thermal barrier 610 $a coatings (TBCs) 610 $a water-stabilized plasma 610 $a yttria-stabilized zirconia (YSZ) 700 -1
$3 cav_un_auth*0246576 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Mušálek $b Radek $p UFP-V $y CZ $z K $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0298925 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Medřický $b Jan $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0326898 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Tesař $b Tomáš $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0305135 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Kotlan $b Jiří $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0275340 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Pala $b Zdeněk $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0331309 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Lukáč $b František $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0354622 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Illková $b Ksenia $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0051885 $i Plazmochemické technologie $j Plasma Chemical Technologies $k PCHT $l PCT $w Plasma Chemical Technologies $4 070 $a Hlína $b Michal $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101441 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Chráska $b Tomáš $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0347564 $4 070 $a Sokołowski $b P. $y PL 701 -1
$3 cav_un_auth*0345942 $4 070 $a Curry $b N. $y AT 856 $q pdf $u https://link.springer.com/article/10.1007/s11666-017-0622-x $s 3737 kB
Number of the records: 1