Number of the records: 1  

Controlling Microstructure of Yttria-Stabilized Zirconia Prepared from Suspensions and Solutions by Plasma Spraying with High Feed Rates.

  1. SYS0482532
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20240111140952.4
    014
      
    $a 85028991232 $2 SCOPUS
    014
      
    $a 000416433500004 $2 WOS
    017
      
    $a 10.1007/s11666-017-0622-x $2 DOI
    100
      
    $a 20171204d m y slo 03 ba
    101
      
    $a eng
    102
      
    $a US
    200
    1-
    $a Controlling Microstructure of Yttria-Stabilized Zirconia Prepared from Suspensions and Solutions by Plasma Spraying with High Feed Rates.
    215
      
    $a 17 s. $c P
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0257151 $1 011 $a 1059-9630 $e 1544-1016 $1 200 1 $a Journal of Thermal Spray Technology $v Roč. 26, č. 8 (2017), s. 1787-1803 $1 210 $c Springer
    610
      
    $a hybrid plasma torch
    610
      
    $a microstructure
    610
      
    $a solution
    610
      
    $a precursor spraying
    610
      
    $a suspension spraying
    610
      
    $a thermal barrier
    610
      
    $a coatings (TBCs)
    610
      
    $a water-stabilized plasma
    610
      
    $a yttria-stabilized zirconia (YSZ)
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0246576 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Mušálek $b Radek $p UFP-V $y CZ $z K $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0298925 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Medřický $b Jan $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0326898 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Tesař $b Tomáš $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0305135 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Kotlan $b Jiří $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0275340 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Pala $b Zdeněk $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0331309 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Lukáč $b František $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0354622 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Illková $b Ksenia $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0051885 $i Plazmochemické technologie $j Plasma Chemical Technologies $k PCHT $l PCT $w Plasma Chemical Technologies $4 070 $a Hlína $b Michal $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0101441 $i Materiálové inženýrství $j Materials Engineering $k MI $l MI $w Materials Engineering $4 070 $a Chráska $b Tomáš $p UFP-V $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0347564 $4 070 $a Sokołowski $b P. $y PL
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0345942 $4 070 $a Curry $b N. $y AT
    856
      
    $q pdf $u https://link.springer.com/article/10.1007/s11666-017-0622-x $s 3737 kB
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.