Number of the records: 1  

Interferometr pro extrémní ultrafialovou oblast

  1. 1.
    SYSNO ASEP0446156
    Document TypeP1 - Utility model, Industrial Design
    R&D Document TypeResults of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
    RIV SubspeciesUžitný vzor
    TitleInterferometr pro extrémní ultrafialovou oblast
    TitleInterferometer for extreme ultraviolet spectrum
    Author(s) Koláček, Karel (UFP-V) RID
    Frolov, Oleksandr (UFP-V) RID
    Melich, Radek (UFP-V) RID
    Prukner, Václav (UFP-V) RID, ORCID
    Schmidt, Jiří (UFP-V) RID
    Štraus, Jaroslav (UFP-V) RID
    Year of issue2014
    Publication formPrint - P
    Name of the patent ownerÚstav fyziky plazmatu AV ČR, v.v.i
    AdressPraha 8, Za Slovankou 1782/3
    Date of the utility model acceptance14.04.2014
    Utility model number26782
    Licence feeZ - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek
    Current useA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Use by another entityA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Languagecze - Czech
    KeywordsEUV interferometer ; semi-ellipsoidal mirrors ; multilayer mirror
    Subject RIVBH - Optics, Masers, Lasers
    R&D ProjectsLG13029 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
    Institutional supportUFP-V - RVO:61389021
    AnnotationInterferometr se sestává ze dvou vzájemně posunutých semi-elipsoidálních zrcadel jejichž první ohnisko je společné (v něm je zdroj koherentního EUV záření) a druhá ohniska jsou blízká. Zrcadla dělí primární svazek na dva stejně intenzivní sekundární svazky a fokusují je tak, že se před ohnisky vzájemně protínají. V místě protínání vzniká interferenční obrazec s vysokou hustotou proužků a s vysokou fluencí.
    Description in EnglishInterferometer consists of two mutually shifted semi-ellipsoidal mirrors, the first focus of which is common (there is a source of coherent EUV radiation), and the second foci are close to each other. The mirrors split the primary beam to two equally intense secondary beams and focus them in such a way that they cross each other before reaching foci. In the crossing region the interference pattern is generated that has high density of interference fringes and high fluency
    WorkplaceInstitute of Plasma Physics
    ContactVladimíra Kebza, kebza@ipp.cas.cz, Tel.: 266 052 975
    Year of Publishing2016
    Electronic addresshttp://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0026/uv026782.pdf
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.