0423948 - ÚPT 2014 RIV CZ cze B - Monography
Matějka, František
Praktická elektronová litografie.
[Practical E-Beam Lithography.]
Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i, 2013. 88 s. ISBN 978-80-87441-04-6
R&D Projects: GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e-beam lithography * e-beam resist * e-beam exposure
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering

Kniha předkládá čtenáři základní koncepty elektronové litografie a autorovy praktické zkušenosti za období třicetileté soustavné činnosti v oboru elektronové litografie a souvisejících technologických postupech.

The book presents concepts of electron beam lithography and offers results of author's practical experience over thirty-year continuous activity in the field of e-beam lithography and related processes.

Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0229992