Number of the records: 1
Growth and Modification of Organosilicon FIlms in PECVD and Remote Afterglow Reactors
SYS 0032069 LBL 02840^^^^^2200265^^^450 005 20240103182454.9 100 $a 20060422d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a DE 200 1-
$a Growth and Modification of Organosilicon FIlms in PECVD and Remote Afterglow Reactors 215 $a 10 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0420447 $1 011 $a 1612-8850 $e 1612-8869 $1 200 1 $a Plasma Processes and Polymers $v Roč. 3, č. 2 (2006), s. 100-109 $1 210 $c Wiley 541 1-
$a Růst a modifikace organosilikonových vrstev v plasmatických reaktorech $z cze 610 0-
$a FT-IR 610 0-
$a organosilicon precursors 610 0-
$a plasma polymerisation 700 -1
$3 cav_un_auth*0086415 $a Supiot $b P. $y FR 701 -1
$3 cav_un_auth*0216001 $a Vivien $b C. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0100958 $a Macková $b Anna $p UJF-V $w Výzkum s iontovými a neutronovými svazky $4 070 $T Ústav jaderné fyziky AV ČR, v. v. i. 702 -1
$3 cav_un_auth*0201471 $a Granier $b A. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0216063 $a Escaich $b D. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0216185 $a Bousquet $b A. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0216186 $a Clergereaux $b R. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0216187 $a Raynaud $b P. $y FR 702 -1
$3 cav_un_auth*0086410 $a Strýhal $b Z. $y CZ 702 -1
$3 cav_un_auth*0086411 $a Pavlík $b J. $y CZ
Number of the records: 1