Atmospheric pressure barrier torch discharge and its optimization for flexible deposition of TiO.sub.2./sub. thin coatings on various surfaces

0333773 - FZÚ 2010 RIV CH eng J - Journal Article
Kment, Štěpán - Klusoň, Petr - Žabová, Hana - Churpita, Olexandr - Chichina, Mariya - Čada, Martin - Gregora, Ivan - Krýsa, J. - Hubička, Zdeněk
Atmospheric pressure barrier torch discharge and its optimization for flexible deposition of TiO₂ thin coatings on various surfaces.
[Atmosferický bariérový pochodňový výboj a jeho optimizace pro flexibilní depozice tenkých vrstev TiO₂ na různé substráty.]
Surface and Coatings Technology. Roč. 204, č. 5 (2009), s. 667-675. ISSN 0257-8972
R&D Projects: GA AV ČR KJB100100703; GA AV ČR KAN301370701; GA AV ČR KAN400720701; GA ČR GA202/09/0800
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522; CEZ:AV0Z40720504
Keywords : atmospheric plasma * thin layers * titanium dioxide * PECVD * optical emmision spectroscopy
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
Impact factor: 1.793, year: 2009

The paper reports on preparation of titanium (IV) oxide films via the improved atmospheric pressure Barrier Torch Discharge (BTD) deposition. The major treated topic comprises the influence of the used support on the physical properties of the layers. A set of three different supports were used including quartz slides (non-conducting, dielectric), silicon discs (semi-conducting) and polished Ni sheets (conducting). Crystallographic structure, surface roughness, surface wettability and the film thickness were assessed and used as a set of physical properties to be discussed and compared for each of the films and mutually. In parallel the qualitative analysis of the emission spectra of the Barrier Torch Discharge during the deposition process was also presented. Photocatalytic functionality of the layers was quantified in a simple test based on the photocatalytic oxidation of Rhodamine B (C28H31ClN2O3) under UV radiation.

Práce se zabývá přípravou vrstev TiO2 pomocí atmosferického bariérového pochodňového výboje. Tato metoda je založena na plazma - chemických reakcích par výchozího chemického prekurzoru, probíhajících v prostředí aktivního plazmatu. Tenké vrstvy vznikají ve smyslu heterogenních rekombinačních reakcích na povrchu substrátu. Hlavním tématem práce je studium vlivu použitého substrátu. Byly použity tři různé typy substrátu (křemenné sklo, křemík, leštěný nikl). Připravené vrstvy byly důkladně charakterizovány a byly studovány jejich fotokatalytické vlastnosti.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0178685