Fe and Fe+2%Si targets as ion sources via UV laser ablation plasma

0333736 - FZÚ 2010 RIV DE eng J - Journal Article
Lorusso, A. - Krása, Josef - Láska, Leoš - Nassisi, V. - Velardi, L.
Fe and Fe+2%Si targets as ion sources via UV laser ablation plasma.
[Ablace Fe a Fe +2% Si terčíků pomocí UV laseru plazmovým zdrojem iontů.]
European Physical Journal D. Roč. 54, č. 2 (2009), 473-476. ISSN 1434-6060. E-ISSN 1434-6079
R&D Projects: GA AV ČR IAA100100715
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100523
Keywords : metallic alloy laser-produced plasma * enhanced ion emission * ion temperature
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
Impact factor: 1.420, year: 2009

Characteristics of Fe and Fe with 2% of Si free expanding plasmas produced with the use of KrF laser beam of 10^8 W/cm2 irradiance were determined. The analysis of time-resolved ion currents showed that the Si admixture enhances both the ion charge yield and the plasma temperature, which corresponds in turn to the increasing of the average kinetic energy of the particles as well as of the more collimated space distribution of ions.

Byly změřeny základní charakteristiky Fe a Fe+2%Si plazmatu generovaného pomocí KrF laserového svazku s fluencí 10^8 W/cm2. Analýza iontových proudů ukázala, že příměs Si v monokrystalickém Fe terčíku vede k nárůstu jak celkového náboje Fe iontů tak i ke zvýšení teploty iontů, což souvisí s nárůstem střední kinetické energie iontů, a vede k zúžení toku expandujícího plazmatu.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0178658