Electrical probe diagnostics of the hollow cathode plasma jet system for deposition of TiO.sub.x./sub. thin films

0309887 - FZÚ 2009 RIV DE eng J - Journal Article
Virostko, Petr - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Tichý, M. - Jastrabík, Lubomír
Electrical probe diagnostics of the hollow cathode plasma jet system for deposition of TiO_x thin films.
[Sondová diagnostika plazmového tryskového systému s efektem duté katody pro depozice tenkých vrstev TiO_x.]
Contributions to Plasma Physics. Roč. 48, 5-7 (2008), s. 527-533. ISSN 0863-1042. E-ISSN 1521-3986
R&D Projects: GA AV ČR KAN301370701; GA AV ČR KJB100100707; GA MŠMT(CZ) 1M06002; GA AV ČR KAN400720701; GA ČR GA202/06/0776
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100522; CEZ:AV0Z10100521
Keywords : hollow cathode * plasma jet * probe diagnostics * deposition of thin films
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
Impact factor: 1.250, year: 2008

Measurements of positive ion flux to a negatively biased substrate for deposition of TiO_x thin films by the hollow cathode plasma jet system are presented. Different methods of obtaining the bias of substrate and measuring the resulting ion flux were used for different bias frequencies. Time-resolved Langmuir probe technique was simultaneously used to observe the basic plasma properties during the ion flux measurements.

Jsou prezentovány výsledky měření iontového toku na substrát držený na záporném předpětí při depozici tenkých vrstev TiO_x pomocí plazmového tryskového systému s efektem duté katody. Pro různé frekvence předpětí substrátu jsou implementovány a vzájemně porovnány různé metody určení iontového toku. Časově rozlišená měření pomocí Langmuirovy sondy byla zároveň použita pro měření základních parametrů plazmatu.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0161906