Number of the records: 1  

Thin-film silicon solar cell technology

  1. 1.
    0100472 - FZU-D 20040328 RIV US eng J - Journal Article
    Shah, A. V. - Schade, H. - Vaněček, Milan - Meier, J. - Vallat-Sauvain, E. - Wyrsch, N. - Kroll, U. - Droz, C. - Bailat, J.
    Thin-film silicon solar cell technology.
    [Technologie slunečních článků na bázi tenkých křemíkových vrstev.]
    Progress in Photovoltaics. Roč. 12, - (2004), s. 113-142. ISSN 1062-7995. E-ISSN 1099-159X
    R&D Projects: GA MŽP SN/320/11/03
    Institutional research plan: CEZ:AV0Z1010914
    Keywords : thin-film silicon modules * hydrogenerated amorphous silicon(a-Si:H) * hydrogenerated microcrystalline (ćc-Si:H) * transparent conductive oxydes(TCOs) * building-integrated photovoltaics(BIPV)
    Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
    Impact factor: 1.196, year: 2004

    This paper describes the use, within p-i-n-and n-i-p-type solar cells, of hydrogenated amorphous silicon(a-Si:H) and hydrogenated microcrystalline silicon (µc:H) thin films (layers), both deposited at low temperatures (200oC) by plasma-assisted chemical vapour deposition (PECVD), from a mixture of silane and hydrogen

    Článek popisuje použití tenkých vrstev hydrogenovaného amorfního a mikrokrystalického křemíku pro solární články typu p-i-n a n-i-p, deponovaných při nízkých teplotách (200oC) ze silanu a vodíku metodou PECVD
    Permanent Link:


Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.