0100037 - FZU-D 20040013 RIV CZ cze J - Journal Article
Mates, Tomáš - Fejfar, Antonín - Drbohlav, Ivo - Rezek, Bohuslav - Fojtík, Petr - Luterová, Kateřina - Pelant, Ivan - Kočka, Jan
Studium struktury a růstu nizkoteplotního protokrystalického křemíku pomocí AFM mikroskopu.
[Influence of film thickness, silane concentration and substrate temperature on structure and electrical properties of thin film protocrystalline silicon.]
Československý časopis pro fyziku. Roč. 53, - (2003), s. 93-96. ISSN 0009-0700
R&D Projects: GA AV ČR IAA1010809; GA AV ČR IAB2949101
Institutional research plan: CEZ:AV0Z1010914
Keywords : PECVD * microcrystalline silicon * AFM
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism

Studium vlivu tlouštky vrstvy, koncentrace silanu a teploty substrátu na strukturu a elektrické vlastnosti tenkých vrstev mikrokrystalického křemíku, připraveného pomocí PECVD.

Study of influence of film thickness, silane concentration and substrate temperature on structure and electrical properties of thin microcrystalline siliconfilms by PECVD is presented.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0007545