0025580 - FZÚ 2006 RIV US eng J - Journal Article
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Krása, Josef - Kozlová, Michaela - Pfeifer, Miroslav - Polan, Jiří - Präg R., Ansgar - Rus, Bedřich - Stupka, Michal - Feldhaus, J. - Létal, V. - Otčenášek, Zdeněk - Krzywinski, J. - Nietubyc, R. - Pelka, J. B. - Andrejczuk, A. - Sobierajski, R. - Ryc, L. - Boody, F. P. - Bartnik, A. - Mikolajczyk, J. - Rakowski, R. - Kubát, Pavel - Pína, L. - Horváth, M. - Grisham, M. E. - Vaschenko, G. O. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J. - Fiedorowicz, H.
Short-wavelength ablation of molecular solids: pulse duration and wavelength effects.
[Krátkovlnná ablace molekulárních pevných látek: vlivy vlnové délky a trvání impulzu.]
Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems. Roč. 4, č. 3 (2005), 033007/1-033007/11. ISSN 1537-1646.
[SPIE Conference on Fourth Generation X-Ray Sources and Optics. Denver, 00.08.2004-00.08.2004]
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LN00A100; GA MŠMT(CZ) 1P04LA235
Institutional research plan: CEZ:AV0Z10100523
Keywords : ablation * XUV * x-rays * x-ray laser * material processing * microlithography
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Impact factor: 1.389, year: 2005

Comparing the values of etch rates calculated for nanosecond pulses with those measured for shorter pulses, we can study the influence of pulse duration on XUV ablation efficiency. The results of the experiments also show that the ablation rate increases while the wavelength decreases from the XUV spectral region toward X-rays, mainly due to increase of attenuation lengths at short wavelengths

Když porovnáme vypočtené účinnosti ablace nanosekundovými impulzy s těmi změřenými s femtosekundové impulzy můžeme posoudit vliv délky impulzu na účinnost krátkovlnné ablace. Naše experimentální výsledky dále ukazují, že s poklesem vlnavé délky od XUV do rtg spektrálního oboru ablační účinnost roste s rostoucí atenuační délkou
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0115955