Number of the records: 1  

Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace

  1. 1.
    ProjectVýzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.
    Project NameTF01000084
    Grant AgencyGA TA ČR
    Research years2015 - 2017
    Grant Recipient Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    Participants Olejníček
    Catal.org.CAV
    References (4) - Článek v odborném časopise
    (1) - Prototyp, funkční vzorek
    (1) - Patentový dokument
    (1) - Užitný vzor, průmyslový vzor
    (1) - Poloprovoz, technologie, odrůda, plemeno
    FileProjekty
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.