SMV-2021-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky

0549952 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Research Report
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2021-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
[SMV-2021-01: Relief structures based on diffractive optics.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2021. 22 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
OECD category: Nano-processes (applications on nano-scale)

Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.

Research and development in the field of physical realization of graphic and optical structures based on the principle of diffractive optics by means of electron beam lithography in a recording material supported by a silicon or glass board. The research covers the analysis of the graphical or optical motive, research and application of relief structures implementing the required graphic and optical properties, research and modeling of the physical possibilities of implementation of relief structures, preparation and analysis of technology of implementation of relief structures with regard to the limits of current scientific instruments, verification of theoretical considerations by means of relief structure sample exposure.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0325848