SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav

0545141 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Research Report
Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Kopal, Jaroslav
SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav.
[SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems.]
Brno: Meopta - optika, s.r.o., 2021. 6 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : e-beam lithography * lithography mask
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)

Byla vyvinuta, realizována a charakterizována amplitudová maska dle podkladů zadavatele. K přípravě byl použit zápis motivu v zařízení s elektronovým svazkem a související technologické operace. Parametry byly ověřeny pomocí skenování povrchu sondou.

An amplitude mask was developed, implemented and characterized according to the partner's documents. The notation of the motif in an electron beam device and related technological operations were used for the preparation. The parameters were verified by scanning the surface with a probe.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0321889