Kontrola čistoty povrchů optických krystalů

0540116 - ÚPT 2021 RIV CZ cze O - Others
Bábor, P. - Nejezchleb, K. - Lalinský, Ondřej
Kontrola čistoty povrchů optických krystalů.
[Purity control of optical crystal surfaces.]
2020
R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : surface * crystal * contamination * SIMS * LEIS
OECD category: Electrical and electronic engineering

Byly provedeny analýzy povrchů optických krystalů. Kromě analýzy standardně čištěných povrchů byl testován efekt iontového čištění krystalů, který se provádí před depozicí optických vrstev. Na takto čištěných površích bylo možné identifikovat výraznou kontaminaci wolframem. Wolframové ionty se pravděpodobně vytváří ve zdroji argonových iontů a nežádoucím způsobem se implantují do povrchu krystalu. Byly použity metody SIMS a LEIS, jejichž efektivita byla ověřena. Poté byly tyto metody implementovány do Technologie kontroly čistoty povrchů optických krystalů, což se v Cryturu stalo součástí procesu monitorování výroby.

Analyses of optical crystal surfaces were performed. In addition to the analysis of standardly cleaned surfaces, the effect of ion cleaning of crystals, which is performed before the deposition of optical layers, was tested. It was possible to identify strong tungsten contamination on such cleaned surfaces. Tungsten ions are probably formed in an argon ion source and are inadvertently implanted into the crystal surface. The SIMS and LEIS methods were used for detection and their effectiveness was proved, and subsequently these methods were implemented in the Optical Crystal Surface Cleanliness Control Technology, which became part of the Crytur production process monitoring.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0317774