SMV-2020-27: Interferometrický systém pro souřadnicové odměřování

0536247 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Research Report
Lazar, Josef - Hrabina, Jan - Holá, Miroslava - Číp, Ondřej - Čížek, Martin
SMV-2020-27: Interferometrický systém pro souřadnicové odměřování.
[SMV-2020-27: Interferometric system for coordinate measurement.]
Brno: Antonín Schenk s.r.o., 2020. 7 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : metrology * interferometry * laser technology
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)

Interferometrický systém pro polohování destiček s vysokým rozlišením je výsledkem aplikovaného výzkumu využívajícího dlouhodobých výsledků výzkumu v optické dimenzionální metrologii na katedře koherenční optiky, který je v prototypové podobě navržen pro litografické systémy s elektronovým paprskem společnosti Raith Nanofabrication, GmbH, Německo. Několik prototypů bylo testováno na zapisovačích elektronických paprsků a vstoupí do výroby.

The interferometric system for high-resolution wafer positioning is a result of applied research exploiting long-term research results in optical dimensional metrology at the Department of Coherence Optics which is in a prototype form designed for electron-beam lithography systems of a company Raith Nanofabrication, GmbH, Germany. Several prototypes have been tested on e-beam writers and will enter production.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0314061