SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM

0536030 - ÚPT 2021 CZ cze V - Research Report
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2020-24: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Delong Instruments, a.s., 2020. 7 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : relief structure: e-beam lithography * relief structure: silicon etching * silicon etching * microlithography
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers

Vývoj přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů byly využity mikro litografické techniky opracování křemíku. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy.

Development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy. Micro-lithographic techniques for the recording of patterns in the silicon were used. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0313879