Number of the records: 1  

Zařízení pro vytváření vysokofrekvenčního plazmového výboje s elektronovou cyklotronovou vlnovou rezonancí

  1. 1.
    0518947 - FZÚ 2020 RIV cze P1 - User Module
    Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Zařízení pro vytváření vysokofrekvenčního plazmového výboje s elektronovou cyklotronovou vlnovou rezonancí.
    [Device for generating high frequency plasma discharge with electron cyclotron wave resonance.]
    2019. Owner: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Date of the utility model acceptance: 05.11.2019. Utility model number: 33342
    R&D Projects: GA TA ČR TF03000025
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : ECWR výboj * elektrické předpětí
    OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://isdv.upv.cz/webapp/resdb.print_detail.det?pspis=PUV/35478&plang=CS

    Překládané technické řešení řeší technický problém pomocí zařízení pro vytváření vysokofrekvenčního plazmového výboje s elektronovou cyklotronovou vlnovou rezonancí (EWCR výboje), který v konečném důsledku ovlivňuje potenciál plazmatu, a tudíž i kinetickou energii iontů. Podstatou technického řešení je přiložené dodatečné napětí z externího zdroje, který je paralelně připojen k vysokofrekvenční elektrodě přes soustavu cívek. Předkládané řešení je provedeno tak, že nedochází k ovlivnění rezonance elektronové cyklotronové elektromagnetické vlny přiloženým dodatečným napětím, avšak v konečném důsledku poskytuje modulaci potenciálu plazmatu v ECWR výboji.


    The present technical solution solves a technical problem by means of a device for generating a high-frequency plasma discharge with an electron cyclotron wave resonance (EWCR discharge), which ultimately affects the plasma potential and hence the kinetic ion energy. The essence of the technical solution is the applied additional voltage from an external source, which is connected in parallel to the high-frequency electrode through a set of coils. The present solution is made in such a way that the resonance of the electron cyclotron electromagnetic wave is not affected by the applied additional voltage, but ultimately provides a modulation of the plasma potential in the ECWR discharge.
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0303947

     
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.