Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy

0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Internal code: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technical parameters: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
R&D Projects: GA MPO FV20580
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)

HiPIMS reaktivní systém se dvěma magnetrony a ICP RF rezonanční elektrodou byl realizován pro depozice optických polovodivých vrstev na plošné optické struktury

HiPIMS reactive system with two magnetrons and ICP RF resonance electrode was realized for the deposition of optical semiconductor thin films on the surface optical structures.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0292132