Number of the records: 1  

Vysokorychlostní depozice homogenních oxidových vrstev prostřednictvím vícetryskového systému žhavených dutých katod

  1. 1.
    0494044 - FZÚ 2019 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
    Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
    Vysokorychlostní depozice homogenních oxidových vrstev prostřednictvím vícetryskového systému žhavených dutých katod.
    [High rate deposition of homogeneous oxide films by multi-nozzle system of hot hollow cathodes.]
    Internal code: TF01000084-2018V003 ; 2018
    Technical parameters: Ohledně výsledku byla dne 28.2.2018 uzavřena licenční smlouva mezi Fyzikálním ústavem a společností IQ Structures, s.r.o. (IČ: 24279501)
    Economic parameters: Ve srovnání s reaktivním DC magnetronovým naprašováním umožňuje tato technologie několikanásobné zvýšení depoziční rychlosti oxidových vrstev. Tento nárůst může v závislosti na naprašovaném materiálu dosáhnout až desetinásobku při současném zachování energetické náročnosti depozičního procesu. Technologie byla testována v průmyslové aparatuře společnosti Emerson & Renwick na vrstvách oxidu titaničitého (TiO2) a oproti DC-MS bylo dosaženo trojnásobné depoziční rychlosti.
    R&D Projects: GA TA ČR(CZ) TF01000084
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : hollow cathode * plazma nozzle * deposition * thin films
    OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)

    Unikátní vysokorychlostní naprašovací systém, využívající čtyři rovnoběžná depoziční děla s dutými katodami. Systém je navržen tak, aby po namontování do vakuové aparatury a připojení k příslušným periferiím (zdroj napětí, pracovní plyny, chladící okruh, …) umožňoval vysokorychlostní depozici vybraných materiálů zejména oxidových vrstev. Technická dokumentace obsahuje kompletní technické výkresy všech komponent vícetryskového systému včetně 3D modelů zkompletovaných částí.

    Unique high-rate deposition system utilizing four parallel deposition guns with hollow cathodes. The system is designed to allow high-rate deposition of selected materials, especially oxide layers, after installation into the vacuum apparatus and connection to the relevant periphery (voltage source, working gases, cooling circuit, ...). The technical documentation contains complete technical drawings of all components of the multi-nozzle system, including 3D models of completed parts.
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0287285

     
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.