Number of the records: 1  

Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm

  1. 1.
    0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
    Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
    [Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
    Internal code: FV1/FZU/2017 ; 2017
    Technical parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Economic parameters: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
    R&D Projects: GA TA ČR TF03000025
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
    OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)

    V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu nazývaný surfatron vhodný pro použití v ALD depozičním systému. Změřené parametry plazmatu prokázali, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma s parametry vykazující lepší jak 10% nehomogenitu v místě uložení podložky.


    As part of the TACR project, we have developed and implemented a microwave plasma jet source called surfatron suitable for use in the ALD deposition system. The measured plasma parameters showed that the surfatron is capable of generating the low-temperature plasma with parameters exhibiting better than 10% inhomogeneity in vicinity of substrate.

    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0281681

     
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.