Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu

0476548 - FZÚ 2017 RIV cze P - Patent Document
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Jan - Straňák, Vítězslav
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu.
[A method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method.]
2017. Owner: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Date of the patent acceptance: 31.05.2017. Patent Number: 306799
R&D Projects: GA TA ČR TA03010743
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : plasma deposition * electrone-cyclotrone wave * acoustic emission
OECD category: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=

Byl realizován způsob měření parametrů nízkotlakého plazmatu, které se používá pro různé aplikace jako je plazmatická depozice tenkých vrstev, plazmové leptání, plazmové iontové zdroje atd. a týká se způsobu měření s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu.Měřící systém je součástí zařízení pro přípravu detekčních struktur akustické emise.

A method for measuring low-pressure plasma parameters used for various applications such as plasma thin film deposition, plasma etching, plasma ion sources, etc., has been realized and corresponds to the method of measurement using wave resonance of electrone-cyclotrone wave and device for realization of this method. The measurement system Is part of the device for the preparation of acoustic emission detection structures.

Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0273025