Plazmatická příprava kovových a oxidových vrstev na keramické a plastové substráty.

0471855 - FZÚ 2017 RIV CZ cze V - Research Report
Olejníček, Jiří
Plazmatická příprava kovových a oxidových vrstev na keramické a plastové substráty..
[Plasma preparation of metal and oxide layers on ceramic and plastic substrates.]
Praha: IQ Structures, s r.o., 2016. 2 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : magnetron sputtering * thin films * surface properties
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics

Smluvní výzkum byl zaměřen na přípravu a optimalizaci procesu plazmatické depozice vybraných tenkých vrstev kovů a polovodivých oxidů s požadovanými optickými vlastnostmi. Cílem bylo připravit průhledné barevné electrochromické vrstvy na teplotně citlivé substráty, vrstvy s vysokým indexem lomu na lisované plastové struktury a lesklé kovové vrstvy na porézní keramické masky.


Contract research was focused on preparation and optimization of the plasma deposition process of selected thin metal and semiconducting oxide layers with required optical properties. The goal was to prepare transparent color electrochromic films on thermally sensitive substrates, the layers with high refractive index on the surface of pressed plastic structures and shiny metallic films on the porous ceramic masks.

Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0269216