SMV-2012-01: Testovací preparát pro SEM

0426229 - ÚPT 2014 RIV CZ cze V - Research Report
Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav
SMV-2012-01: Testovací preparát pro SEM.
[Testing specimens for SEM.]
Brno: FEI Czech Republic s.r.o, 2012. 5 s.
Source of funding: N - Non-public resources
Keywords : dimensional standard * e-beam lithography * e-beam microscopy * anisotropic Silicon etching
Subject RIV: JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering

Výzkum a vývoj v oblasti přípravy testovacích struktur reliéfního typu na křemíkovém substrátu. Využití pro testování metriky (rozměrů a ortogonality) elektronových rastrovacích mikroskopů a pro kalibraci zorného pole mikroskopu. Vzorky jsou připraveny hromadně na křemíkovém substrátu pomocí elektronové litografie a souvisejících technik, a dále dokončeny individuálními operacemi na úrovni jednotlivých čipů. Související výzkum a vývoj v oblasti kontroly a validace přesnosti a tolerance mikro rozměrů; kalibrační certifikát.

Research and development in the field of relief testing structures on Silicon wafer. The specimen is to be used for testing of metrics (dimensions and orthogonality) of scanning electron microscopes (SEM) as well as for the calibration of the SEM view of field. A set of samples is prepared on a Silicon wafer by means of electron-beam lithography and related techniques. The specimens are individually finalized. Related research and development in the field of accuracy assessment and control as well as tolerance measurements in the micron domain; Calibration Certificate.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0231968