Hradlo iontového svazku

0399685 - ÚJF 2014 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Kučírek, Václav - Havránek, Vladimír - Semián, Vladimír
Hradlo iontového svazku.
[The gate of the ion beam.]
Internal code: TAND-F2 ; 2013
Technical parameters: info - Václav Kučírek
Economic parameters: Důležitá funkcionalita pro usnadnění ovládání iontového svazku v případě měření citlivých vzorků, kdy může docházet k postupné destrukci vzorku pod iontovým svazkem, velmi důležité pro sofistikovanou aplikaci – iontové obrábění.
R&D Projects: GA ČR GA106/09/0125; GA MŠMT(XE) LM2011019
Institutional support: RVO:61389005
Keywords : source of pulses * rising edge * falling edge * deflection plate * ion line * TTL signal
Subject RIV: BG - Nuclear, Atomic and Molecular Physics, Colliders

Hradlo iontového svazku slouží k rychlému zamezení dopadu iontového svazku na vzorek v případě měření citlivých vzorků vychýlením svazku stranou. Toho se využívá například k zahrazení iontového svazku v intervalech, kdy je třeba vypnout svazek - tj. v čase mrtvé doby konvertoru, kdy spektroskopická trasa neregistruje impulsy a vzorek není dobré vystavovat nadměrné radiační zátěži, v době přejíždění svazku na novou počáteční polohu při mikroobrábění - jedná se o intervaly v řádu mikrosekund. Jedná se o zdroj impulzů plus a mínus sto voltů s velmi krátkou náběžnou a sestupnou hranou (menší než 0,2µs). V klidu je výstup přesně na nule. Impulzy mohou být libovolně dlouhé. Impulzy se přivádí na vychylovací desky. Při vychýlení neprochází svazek iontovodem, ale končí na clonách. Buzení: TTL signál.

The ion gate can quickly turn off the ion beam impinging on the sample in case of measurement of the radiation sensitive samples using ion beam deflection.. This is used for example to intercept the ion beam at the time, when the necessity of turn off the beam appears – e.g. in the dead time of the converter, when the spectroscopic line is not able to register particles and the sample can not be overloaded by irradiation, in the time of the beam shifting to the new position during ion beam micro-machining. It is a source of pulses plus and minus one hundred volts with a very short rising and falling edge (less than 0.2 microseconds). Normally, the output is exactly at zero. Pulses can be of any length. The pulses are fed to the deflection plates. During the deflection the beam does not pass through the ion line but ends on the screens. Actuating: TTL signal.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0226936