Number of the records: 1
Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm
- 1.0336589 - ÚPT 2010 RIV CZ cze Z - Pilot plant, v. technol., variety, breed
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Mikšík, P. - Vašina, J. - Horák, R.
Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm.
[E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm.]
Internal code: 162 410 ; 2009
Technical parameters: Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
Economic parameters: Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
R&D Projects: GA MPO FR-TI1/576
Keywords : electron beam lithography * shaped electron beam
Subject RIV: JP - Industrial Processing
Realizace technologie zápisu elektronovým svazkem obdélníkového tvaru proměnné velikosti, nastavitelné nezávisle v každém směru v rozsahu 66-2100 nm s krokem 33 nm.
Implementation of electron beam writing technology with a shaped rectangular electron beam of variable size, the beam size being adjusted independently in both axes in the range 66-2100 nm with the step of 33 nm.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0180792
Number of the records: 1