Number of the records: 1  

Investigation of plasma polymer and nano composite polymer films by Rutherford Backscattering Spectrometry and by Elastic Recoil Detection Analysis analytical methods

  1. 1.
    0105675 - UJF-V 20043249 RIV SK eng J - Journal Article
    Macková, Anna - Peřina, Vratislav - Hnatowicz, Vladimír - Biederman, H. - Slavinská, D. - Choukourov, A.
    Investigation of plasma polymer and nano composite polymer films by Rutherford Backscattering Spectrometry and by Elastic Recoil Detection Analysis analytical methods.
    [Výzkum plasmových polymerů a nanokompozitních polymerních filmů analytickými metodami spektroskopie Rutherfordova zpětného rozptylu a analýzy detekce elestického odrazu.]
    Acta Physica Slovaca. Roč. 54, č. 1 (2004), s. 7-10. ISSN 0323-0465. E-ISSN 1336-040X
    R&D Projects: GA ČR GP102/01/D069; GA AV ČR KSK1048102
    Keywords : coatings
    Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
    Impact factor: 0.513, year: 2004

    In this work, we have studied the composition of polymer thin films prepared by plasma polymerisation and d.c. magnetron sputtering. We investigated two sets of samples, one set Ag composite layers and the second set nitrogen containing plasma polymers, both deposited on the silicon substrate. The Rutherford Backscattering Spectrometry and Elastic Recoil Detection Analysis measurement was used to characterize the composition and to determine the element depth profiles in the deposited layers

    Studujeme tenké vrstvy kompozitních polymerů připravené plasmovou polymerizací a d.c. magnetronovým sputteringem. Studujeme 2 sady vzorků, jednu s Ag kompozitními vrstvami a druhou s dusíkem obsaženým v plasmovém polymeru, obojí deponované na křemíkovém substrátu. Měřením RBS a ERDA charakterizujeme složení a určujeme hloubkové profily prvků v deponovaných vrstvách
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0012901

     
     

Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.